可以！沒(méi)問(wèn)題！ 一、符合《注冊(cè)電氣工程師執(zhí)業(yè)資格制度暫行規(guī)定》第十條的要求并具備以下條件之一者可申請(qǐng)參加基礎(chǔ)考試：1、取得本專業(yè)（電氣工程、電氣工程自動(dòng)化專業(yè)）或相近專業(yè)（自動(dòng)化、電子信息工程、通信工程、計(jì)算機(jī)科學(xué)與技術(shù)專業(yè)）大學(xué)本科及以上學(xué)歷或?qū)W位。 2、取得本專業(yè)或相近專業(yè)大學(xué)?？茖W(xué)歷，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿1年。 3、取得其他工科專業(yè)大學(xué)本科及以上學(xué)歷或?qū)W位，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿1年。二、基礎(chǔ)考試合格并具備以下條件之一者可申請(qǐng)參加專業(yè)考試1、取得本專業(yè)博士學(xué)位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿2年；或取得相近專業(yè)博士學(xué)位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿3年。 2、取得本專業(yè)碩士學(xué)位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿3年；或取得相近專業(yè)碩士學(xué)位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿4年。 3、取得含本專業(yè)在內(nèi)的雙學(xué)士學(xué)位或本專業(yè)研究生班畢業(yè)后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿4年；或取得相近專業(yè)雙學(xué)士學(xué)位或研究生班畢業(yè)后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿5年。 4、取得通過(guò)本專業(yè)教育評(píng)估的大學(xué)本科學(xué)歷或?qū)W位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿4年；或取得未通過(guò)本專業(yè)教育評(píng)估的大學(xué)本科學(xué)歷或?qū)W位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿5年；或取得相近專業(yè)大學(xué)本科學(xué)歷或?qū)W位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿6年。 5、取得本專業(yè)大學(xué)?？茖W(xué)歷后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿6年；或取得相近專業(yè)大學(xué)?？茖W(xué)歷后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿7年。 6、取得其他工科專業(yè)大學(xué)本科及以上學(xué)歷或?qū)W位后，累計(jì)從事電氣專業(yè)工程設(shè)計(jì)工作滿8年。

光學(xué)工程師與數(shù)學(xué)驗(yàn)證師都好。數(shù)學(xué)驗(yàn)證師工作職責(zé)：參與基于工藝節(jié)點(diǎn)(28nm、14/12nm、7/5nm)的GPU和高速數(shù)?；旌想娐方涌诤徒粨Q類模塊、高清ISP等高端智能芯片的建模和驗(yàn)證。使用C，SystemVerilog，UVM等語(yǔ)言/工具開(kāi)發(fā)驗(yàn)證平臺(tái)和驗(yàn)證用例，實(shí)現(xiàn)高效率的芯片功能和性能驗(yàn)證，滿足TapeOut高質(zhì)量高可靠性要求。完成相關(guān)覆蓋率分析，輸出驗(yàn)證方案和驗(yàn)證報(bào)告文檔。任職資格：電子、通信、計(jì)算機(jī)、半導(dǎo)體物理或微電子等理工類相關(guān)專業(yè)，本科及以上學(xué)歷，2年以上相關(guān)學(xué)習(xí)或項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)，扎實(shí)的數(shù)字電路基礎(chǔ)，具備一定ASIC設(shè)計(jì)驗(yàn)證、FPGA實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。熟練掌握Verilog語(yǔ)言編程及ASIC開(kāi)發(fā)流程，精通UVM等驗(yàn)證方法學(xué)。有學(xué)習(xí)新的相關(guān)技術(shù)和工具的熱情，具有邏輯和創(chuàng)造性的思維能力，具有英語(yǔ)交流能力，溝通和解決問(wèn)題的能力。1、光學(xué)工程師崗位要求：博士及以上學(xué)歷，光學(xué)相關(guān)專業(yè)。研究方向?yàn)閷I(yè)相關(guān)。良好的溝通邏輯能力，思路清晰，穩(wěn)重細(xì)心。崗位職責(zé)：深耕技術(shù)，難點(diǎn)攻克。負(fù)責(zé)公司光學(xué)產(chǎn)品研發(fā)。